抛光方法一般可分为湿研﹑干研和半干◣研 3类.①湿研﹕又称敷砂抛光﹐把液态抛光剂接连加注或涂敷在抛光表面﹐磨料在工件与研具间不断滑动和翻滚﹐构成切╲削运动.②湿研一般用于粗抛光﹐所用微粉磨料粒度粗于W7.③干研﹕又称→嵌砂抛光﹐把磨料均匀在压嵌在研具表面层中﹐抛光时只须在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等辅助材料.干研常用于精抛光﹐所用微粉磨料粒度细于W7.④半干研﹕类似湿研﹐所用抛光剂是糊状抛光膏.抛光既可用手工操作﹐也可在磁力抛光机上进行.工件在抛光前须先用其它加工方法获得较高的预加工精度﹐所留抛光余量一∏般为5——30微米.

    研具是使工件抛光成形的东西﹐一起又是抛光剂的载体﹐硬度应低Ψ 于工件的硬度﹐又有必定◤的耐磨性﹐常用灰铸铁制成.湿研研具的金相组织以铁素体磁力抛光机为主﹔干研研具则以均匀纤细的珠光体为基体.抛光M5以下的螺纹和形状凌乱的小型工件时﹐常用软钢研具∞.抛光小孔和软金属材料时﹐大多选用黄铜﹑紫铜研具.研具应有满意的刚度﹐其工作表面要有较高的几何精度.研具在抛光过程中也遭☉到切削和磨损﹐如操作稳当﹐它的精度也可得到前进﹐使工件的加工精度能高于研具的初始精度.

    正确处理磁力抛光机的运动轨迹是前进抛光质量的重要条件.在平面抛光中﹐一般恳求﹕①工件相〖对研具的运动﹐要尽量保证工件上各点的抛光行程长度邻近﹔②工件运动轨迹均匀地广泛整个研具表面﹐以利于研具均匀磨∩损﹔③运动轨迹的曲率改变要小﹐以保证工件运动平稳﹔④工件就任一点的运动轨迹尽量避免过早呈现周期性重复.为了减少切削☆热﹐抛光一般在低压低速条件下进行.粗研的压力不逾越 0.3兆帕﹐精研压力一般选用0.03——0.05兆帕.粗研速度一般为20——120米/分﹐精研速度一般取10——30米/分.